При промышленном выпуске кремниевых приборов для травления кристаллов используют водные растворы сильных щелочей и смеси азотной и плавиковой кислот.
Щелочной травитель: 10—30%-ный водный раствор КОН или NaOH.
Травление происходит достаточно энергично при подогреве до 90—100°С. После травления получается гладкая, но не зеркальная поверхность. При нагреве в присутствии щелочи кремний энергично разлагает воду с выделением атомарного кислорода, что и вызывает окисление его поверхности сначала до моноокиси, а затем до двуокиси кремния:
Si+H20 = SiO+H2; SiO+H20=Si02+H2.
Двуокись   кремния,   взаимодействуя   с   щелочами (КОН), образует соли кремниевой кислоты — силикаты:
Si02+2KOH=K2Si03+H20.
Во избежание образования в процессе реакции почти нерастворимой в воде кремниевой кислоты из-за гидролиза силиката калия
K2Si03+2H20^2KOH+H2Si03
травление следует вести в избытке щелочи.
Кислотный травитель Ср-8 (2 части 98%-ной HN03; 1 часть 42%-ной HF).
Травление идет энергично без подогрева. После травления кремний имеет гладкую поверхность. Поскольку кремний травится медленно, то в травитель добавлять замедлители (уксусную кислоту) нет надобности.
Последовательность травления кремния в Ср-8 аналогична последовательности травления германия в Ср-4:
Si+2HN03=SiO+2N02 + H20; SiO+2HN03=Si02+2N02+H20; Si02+4HF= SiF4+2H20.
В общем виде эту реакцию можно выразить так же, как и в случае травления германия:
3Si + 4HN03+18HF=3H2(SiF6)+4NO+8H20.